佳能的新技術在芯片製造方面與 ASML 競爭

根據 CNBC 的一份報告，佳能最近推出的「納米印刷平版」系統代表了該公司對荷蘭公司 ASML 的競爭反應，這是極端紫外線（EUV）光刻印機領域的主導力量。ASML 的機械對於生產尖端芯片至關重要，包括在最新 Apple iPhone 中使用的芯片。

這些機器的利用引起了美國和中國之間的技術衝突。美國採用出口限制和多種制裁，旨在阻礙中國獲得關鍵芯片和製造機械的訪問，阻礙全球第二大經濟體在已經被認為落後的領域的進步。

ASML 的 EUV 技術在實現 5 奈米或以下半導體生產方面的關鍵作用，因此在領先晶片製造商中獲得了重要的吸引力。這種奈米測量與晶片特性的大小有關，較小的值可容納晶片上的更多功能，從而提高了半導體性能。 $Canon(CAJPY.US)$ $阿斯麥(ASML.US)$