長期這個領域應該不錯的

$Metech Intl(V3M.SG)$ 在金剛石單晶合成領域，由於化學氣相沉積法（CVD）在合成金剛石單晶時只能在布有晶種的基板上生長，屬於二維生長，且只能生長單層，不適宜合成小顆粒單晶，無法滿足工業領域對金剛石單晶的需求，因此在工業應用方面高溫高壓法（HTHP）爲主流。

在培育鑽石合成方面，基於現有技術條件，高溫高壓法（HTHP）合成培育鑽石以塔狀爲主，生長速度快、成本低、純淨度稍差，但綜合效益具有優勢，特別是在1-5ct培育鑽石合成方面具有明顯優勢；

化學氣相沉積法（CVD）合成培育鑽石呈板狀，顏色不易控制、培育週期長、成本較高，但純淨度高，較適宜5ct以上培育鑽石合成。

因此，在金剛石單晶合成領域，高溫高壓法（HTHP）佔據工業應用主流；在培育鑽石合成領域，兩者側重於不同類型的產品，不構成替代關係