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CVV CVD设备

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收盘价 04/30 16:00 (美东)
3036.91万总市值-7177市盈率TTM

关于CVD设备公司

CVD Equipment Corp 从事化学气相沉积设备、定制气体控制系统的制造，以及适合合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备生产线和一系列炉子，所有这些都是用于生产半导体和其他电子元件的。公司通过 CVD 设备、CVD 材料和 Stainless Design Concepts 这几个部门运营。它从 CVD 设备部门获得最大收入。CVD 设备部门负责制造和销售化学气相沉积、物理气相传输以及类似设备。

公司介绍

公司代码CVV
公司名称CVD设备
上市日期2001/06/04
成立日期1982
CEOMr. Emmanuel Lakios
所属市场纳斯达克
员工数量128
证券类型海外普通股
年结日12-31
公司地址355 South Technology Drive
城市Central Islip
省份纽约州
国家美国
邮编11722
电话1-631-981-7081
网址http://www.cvdequipment.com

董事高管

  • 姓名
  • 职务
  • 年薪
  • Emmanuel Lakios
  • Chief Executive Officer, Director and President
  • 75.89万
  • Richard A. Catalano
  • Chief Financial Officer, Executive Vice President, Secretary, Treasurer and Principal Accounting Officer
  • 18.05万
  • Kevin R. Collins
  • Vice President and General Manager, SDC Division
  • --
  • Dr. Jeffrey A. Brogan
  • Vice President, Sales and Marketing
  • 30.52万
  • Warren David Cheesman
  • Vice President, Manufacturing Operations
  • --
  • Dr. Maxim S. Shatalov
  • Vice President, Engineering and Technology
  • --
  • Lawrence J. Waldman, C.P.A.
  • Chairman of the Board and Lead Independent Director
  • 15.30万
  • Dr. Robert M. Brill, PhD
  • Independent Director
  • 9.00万
  • Debra Wasser
  • Independent Director
  • --
  • Dr. Ashraf Wagih Lotfi
  • Independent Director
  • --
  • Raymond A. Nielsen
  • Independent Director
  • 9.00万
  • Conrad J. Gunther
  • Independent Director
  • 9.00万

分析

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