NVIDIA 在 ASML、TSMC 和 Synopsys 的芯片制造方面取得了突破

NVIDIA 的 GTC 开发者大会刚刚结束，在人工智能 (AI) 的热议中， 该公司透露，它在芯片制造方面取得了突破。 这一进步也受到了包括ASML、TSMC和Synopsys在内的半导体领导者的欢迎，因为在当前工艺达到物理极限之际，它为计算光刻领域带来了加速计算。 $台积电(TSM.US)$ $英伟达(NVDA.US)$

这一突破为使用NVIDIA的GPU的计算光刻带来了加速计算，使上述行业领导者能够加快下一代芯片的设计和制造。新的软件库被称为CuliTho，有望使芯片设计开发时间呈指数级加快。

CuliTho 还可以减少芯片工厂数据中心的碳足迹，并可以突破尖端半导体设计的界限。到目前为止，NVIDIA CuliTho已经被世界顶级芯片代工台积电、领先的EDA芯片设计工具公司Synopsys和芯片制造设备制造商ASML所采用。

该平台背后的想法是将生成光刻机用来将晶体管或电线等纳米级特征（例如晶体管或电线）蚀刻成硅晶片的光掩模这一复杂且计算成本高昂的过程并行化。

NVIDIA创始人兼首席执行官Jensen Huang在年度GTC开发者大会上的主题演讲中说：“由于光刻技术处于物理极限，NVIDIA引入了CuliTho以及与合作伙伴台积电、ASML和Synopsys的合作，使晶圆厂能够提高吞吐量，减少碳足迹，为2nm及更长时间奠定基础。” $3倍做多半导体ETF-Direxion(SOXL.US)$